空(kōng)氣與壓縮空(kōng)氣知(zhī)識分(fēn)享
日(rì)期:2019-07-22 來(lái)源:鑫統亞 分(fēn)享:

空(kōng)氣與壓縮空(kōng)氣 

空(kōng)氣過濾器(qì)分(fēn)享:在地(dì)球引力作(zuò)用(yòng)下(xià),大(dà)量氣體(tǐ)聚集在地(dì)球周圍,形成數(shù)千公裡(lǐ)的(de≥)大(dà)氣層。氣體(tǐ)密度随離(lí)地(dì)面高(gāo)度的(de)增加而變得(de)愈來(lái)愈稀薄€。探空(kōng)火(huǒ)箭在3000公裡(lǐ)高(gāo)空(kōng)仍發現(xiàn)有(yǒu)稀薄大(dà)氣,有"(yǒu)人(rén)認為(wèi),大(dà)氣層的(de)上(shàng)界可(kě)能(néng)延伸到(dào)離(lí)地(dì)面64₩00公裡(lǐ)左右。地(dì)表大(dà)氣平均壓力為(wèi)1個(gè)大(dà)氣壓,相(xiàng)當于每平方厘米地(dì)球表面包圍103♠4g空(kōng)氣。地(dì)球總表面積為(wèi)510100934平方公裡(lǐ),所以大(dà)氣總質量約為(wèi)5.2×1015噸,差不(bù)多(duō)占地(d↑ì)球總質量的(de)百萬分(fēn)之一(yī),大(dà)氣随高(gāo)度的(de)增加而逐漸稀薄,50%的(de)質量集中在30km以下(xià)的(✔de)範圍內(nèi)。高(gāo)度100km以上(shàng)的(de)空(kōng)氣質量僅是(shì)整個(gè)大(dà)氣圈質量的(de)百≥萬分(fēn)之一(yī)。  

地(dì)面的(de)大(dà)氣是(shì)多(duō)種氣體(tǐ)的(de)混合物(wù),其中:氮78%、氧21%、氩0.93%、二氧化(huà)碳0.03 %、氖0.0018%,此外(wài)還(hái)有(yǒu)其他(tā)惰性氣體(tǐ)、臭氧、水(shuǐ)氣和(•hé)塵埃等。  

由于環境污染,目前空(kōng)氣還(hái)含有(yǒu)二氧化(huà)硫、氮氧化(huà)物(wù)、一(yī)氧化‌(huà)碳等有(yǒu)毒氣體(tǐ)。  幹空(kōng)氣的(de)分(fēn)子(zǐ)量為(wèi)28.96,在0℃、760m​mHg柱時(shí)的(de)密度為(wèi)1.293g/m3。  

空(kōng)氣過濾器(qì),空(kōng)氣經過機(jī)械壓縮以後就(jiù)成了(le)壓縮空(kōng)氣,用(yòng)作(zuò)生(shēng)産壓縮空(kō<ng)氣的(de)設備通(tōng)常稱為(wèi)空(kōng)氣壓縮機(jī)。人(rén)類很(hěn)早就(ji<ù)懂(dǒng)得(de)使用(yòng)壓縮空(kōng)氣,現(xiàn)在壓縮空(kōng)氣已是(shì)人(rén)類生(shēng₹)産、生(shēng)活中一(yī)種不(bù)可(kě)缺少(shǎo)的(de)動力。随著(zhe)現(xiàn)代工(gōng)業(yè)的(de)不(b™ù)斷發展,對(duì)壓縮空(kōng)氣質量的(de)要(yào)求也(yě)越來(lái)越高(gāo),而且呈多(duō)樣化(huà)。  現(xiàn¥)代産業(yè)對(duì)壓縮空(kōng)氣的(de)要(yào)求可(kě)分(fēn)為(w✔èi)以下(xià)幾個(gè)方面:  

1)壓力、流量的(de)要(yào)求:任何需要(yào)壓縮空(kōng)氣的(de)場(chǎng)合對(duì)壓縮空(k✔ōng)氣的(de)壓力和(hé)流量都(dōu)是(shì)有(yǒu)要(yào)求的(de)。目前普遍的(de)÷壓力值在0.7MPa(g)左右。在一(yī)些(xiē)特殊場(chǎng)合如(rú)玻璃行(xíng)業(yè),對(duì)壓縮空(kōng)氣的(de)壓力要(yào)求可(kěβ)能(néng)為(wèi)0.2-0.4 MPa(g)左右;在某些(xiē)軍工(gōng)企業(yè),對(duì)壓縮空(kōng)氣壓力要(yào)®求可(kě)能(néng)在幾十MPa。市(shì)場(chǎng)上(shàng)有(yǒu)各種各樣的(de)空(kōng)氣壓縮機(≠jī)可(kě)以來(lái)滿足這(zhè)些(xiē)要(yào)求。  

2)幹燥度(即含水(shuǐ)量或露點溫度)的(de)要(yào)求:不(bù)同的(de)工(gōng)藝對(duì)壓縮空(kōng)氣露 點溫度要(yào)求也(yě)不(bù)同,如(rú)用(yòng)作(zuò)儀表方面的(de)壓縮空(kōng)氣壓力露點一(yī)般要(yào)求在-40℃以下∏(xià),而在半導體(tǐ)芯片廠(chǎng)對(duì)壓縮空(kōng)氣的(de)壓力露點可(kě)能(néng)要(yào)求在-70℃,但(dàn)在多(duō)數(sh$ù)場(chǎng)合,對(duì)壓縮空(kōng)氣的(de)露點溫度要(yào)求在0℃以上(shàng)就(jiù)已足夠。壓縮空(kōng)氣的(de)露點要(yào)求通(tōnσg)常由幹燥機(jī)來(lái)實現(xiàn)。  

3)清潔度的(de)要(yào)求(相(xiàng)對(duì)比較複雜(zá),包括:固體(tǐ)物(wù)、油霧、微(wēi)生(sβhēng)物(wù)、有(yǒu)害氣體(tǐ)等):由壓縮空(kōng)氣過濾器(qì)來(lái)解決。